勻膠機是在高速旋轉的基片上，滴注各類膠液，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上的設備，膜的厚度取決于勻膠機的轉速和溶膠的黏度。
勻膠機有一個或多個滴膠系統，可涂不同品種的光刻膠。滴膠的方式有晶片靜止或旋轉滴膠。隨著晶片尺寸的增大，出現了多點滴膠或膠口移動式滴膠。膠膜厚度一般在500-1000nm，同一晶片和片與片間的誤差小于±5nm。滴膠泵有波紋管式和薄膜式兩種，并有流量計進行恒量控制。對涂過膠的晶片有上下刮邊功能，去掉晶片正反面多余的光刻膠。
(1)旋轉速度
轉速的快慢和控制精度直接關系到旋涂層的厚度控制和膜層均勻性。如果標示的轉速和電機的實際轉速誤差很大，對于要求精密涂覆的科研人員來說是無法獲得準確的實驗數據的。目前轉速控制方面有認定標準，如美國NIST標準等。
(2)真空吸附系統
真空泵一般采用無油泵，即通常說的干泵，因為任何的油污都可能堵塞真空管道，如果真空吸附力降低，會導致基片吸附不住而產生"飛片"的情況，還會讓滴的膠液不慎進入真空管道系統造成*堵塞。有的勻膠機通過聯動機制，當真空吸附力不夠時不會開始旋轉。這樣可有效避免滴的膠液不慎進入真空管道系統。
更新時間：2020-12-17
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